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镀膜线是一种用于在基材表面沉积薄膜的技术设备，广泛应用于光学、电子、太阳能等行业。根据不同的应用需求和技术路线，镀膜线的具体结构和加工工艺会有所不同，但大体上可以分为几个主要部分：真空室、蒸发源（或溅射靶）、基板架以及控制系统等。

镀膜线的基本结构

1. 真空室：提供一个低气压环境，以减少气体分子对镀膜过程的影响。真空度要求根据具体的镀膜技术而定。

2. 蒸发源/溅射靶：这是用来产生待沉积材料的装置。对于蒸发镀膜来说，蒸发源通常包括电阻加热式、电子束加热式等多种形式；而对于溅射镀膜，则需要配备相应的靶材。

3. 基板架：放置待镀膜的基材，并且能够调整位置或旋转，确保均匀镀膜。

加工工艺概述

• 预处理：清洁基材表面，去除油污、灰尘等杂质，有时还需要进行化学清洗或物理抛光。

• 抽真空：将镀膜室内空气抽出至所需真空度。

• 加热：对于某些特定材料，可能需要先对基材进行预热处理。

• 镀膜：

• 蒸发镀膜：通过加热使材料蒸发成气态，在基材表面凝结形成薄膜。

• 溅射镀膜：利用高能粒子轰击固体表面（靶材），使得靶材原子被撞击出来并沉积到基材上。

• 镀膜线是一种用于在基材表面沉积薄膜的技术设备，广泛应用于光学、电子、太阳能等行业。根据不同的应用需求和技术路线，镀膜线的具体结构和加工工艺会有所不同，但大体上可以分为几个主要部分：真空室、蒸发源（或溅射靶）、基板架以及控制系统等。

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