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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

1. 韩一镀膜机的主要技术参数：

2. 大镀膜尺寸：韩一镀膜机的大镀膜尺寸根据设备型号和配置而定，一般在300mm到1800mm之间。对于更大型的机型，这个范围可能更大。

3. 镀膜速度：镀膜速度会根据不同型号的韩一镀膜机而有所不同，范围大致在0.1nm/s到100nm/s之间。为了获得佳镀膜效果，需要根据具体情况调整镀膜速度。

4. 真空度：真空度是衡量韩一镀膜机质量的一个重要因素，通常为1x10^-4 Pa左右。高真空度的设置有助于提供更好的镀膜效果。

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7. 适用领域：韩一镀膜机适用于多种领域，如汽车零部件、手机外壳、石英晶圆等

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