TSMR™-V90光刻胶TOK

TOK提供多种类型的光刻胶，以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）光刻胶等。

G线胶有OFPR Series、TSMR Series两个系列

。

i线胶有TSMR Series、THMR-iPSeries、TDMR-AR Series三个系列

ArF胶有TARF系列

High-resolution i-line positive photoresist. Excellent for fine pattern formation.

Substrate

Si (HMDS)

Film Thickness

0.84μm

Pre-bake

90℃, 90sec

Exposure

i-line stepper (NA: 0.57)

P.E.B.

110℃, 90sec

Development

NMD-3 2.38%, 23℃, 60sec