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发明内容、本发明的目的是提供一种易于及时排出炉内的混合气体，且可减少热 能及消耗的直拉式单晶生长炉。实现本发明目的的技术方案是提供一种直拉式单晶生长炉，其包括 输入管、与输入管相连通的环形气体分布器；其特征在于经氩 气输入管输入的气压为0. 8xl0a0. 9xl0a,流量为 30L/min。上述技术方案中，还包括设于直拉式单晶生长炉的坩埚支持器下方和 该炉底部的排气口之间的气流导向装置；该气流导向装置为碗形，其包括 设于气流导向装置底部的中轴孔、设于所述中轴孔两侧的 一对电极孔、 以及设于所述中轴孔两侧并与该炉的排气口相对的通气孔；该炉的石墨中 轴穿过所述气流导向装置的中轴孔，该炉的 一对电极柱分别穿过所述电极 孔，该炉的排气口与气流导向装置的各通气孔相连通，气流导向装置的上 端部设于该炉的保温筒与发热体之间。蓝宝石长晶炉回收，多晶硅铸锭炉回收，提拉式长晶炉回收，多晶长晶炉回收，卧式长晶炉回收，拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1　引　言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,其中用量和用途广泛的是半导体硅。当今 95%以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路 ,生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用提拉的办法制成的。在单晶硅生产过程中 ,对晶体的提拉速度有十分严格的要求 ,从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。图 1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器 ,再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中 ,要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度 V向上 (下 )运动 ,而且当提拉负载增大引起线速度为零时 ,提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。在实际单晶炉中 ,对提拉控制系统提出的主要技术指标是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范围之内实现无级可调 ,线性精度大于± 2 %

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2011年度，相关部门推出了一系列的激励政策，包括2011年度的金太阳项目，太阳能光电建筑应用示范工程，以及光伏上网电价等。这些政策的出台和实施，对光伏产业起到了很好的推动作用。在能源科技“十二五”规划中，明确划分了4个技术领域：勘探与开采技术、加工与转化技术、发电与输配电技术和新能源技术。提到2020年，光伏发电成本降低到与常规电力相当的目标，充分体现了实现由能源大国向能源强国转变、促进光伏应用发展的决心。而能源局公布的“十二五”可再生能源目标，提出到2015年光伏发电将达到15GW，发电量200亿千瓦时。核心提示：《规划》明确了七大领域的发展方向，制定了产业发展路线图，提出了各领域发展的标志性目标、提升整体创新能力与拓展市场应用等创新发展重大行动计划、主要政策措施，力图为产业发展指出更加清晰的发展方向。

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