小型真空磁控溅射镀膜机晶振片膜厚监测仪
该产品为台式磁控溅射镀膜机，能够在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au），钯（Pd），铂（Pt）和金/钯（Au / Pd）的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，使样品适用于扫描电子显微镜（SEM）分析。仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学，所得结果一致，可重复性高。
产品特点：
• 彩色触摸屏：数据输入简单快速
• 通过触摸屏中直观检测数据和曲线；历史页面可显示300个历史涂层信息。
• 可控镀膜速率，可得到更精细的晶粒结构
• 可手动或自动，根据时间或根据厚度进行溅射
• 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来好的喷金效果。
磁控溅射优点
(1)沉积速率快,沉积,适合工业生产大规模应用;
(2)基片温度低,适合塑料等不耐高温的基材镀膜;
(3)制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强;
(4)可制备金属、合金、氧化物等薄膜;
小型溅射仪
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