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氮化硅陶瓷应用范围
氮化硅Si3N4陶瓷材料具有强度高、热稳定和化学稳定性好等优点,且与石英、BN等复合后能够获得良好的介电性能,适合用作透波陶瓷材料,以Si3N4为基本组成的陶瓷天线罩陶瓷材料成为各国研究的之一,波音公司利用反应烧结Si3N4的密度可控性,研制了多倍频程宽带天线罩其罩壁结构为两层,表层为较薄的高密度Si3N4陶瓷材料这种高密度、高介电常数表层与低密度、低介电常数芯层的组合,可使天线罩在宽频带范围内满足电性能要求。
氮化硅陶瓷物理特性
Si3N4有两种晶型,即α—Si3N4(颗粒状晶体)和β一Si3N4(长柱状或针状晶体),均属六方晶系,都是由[SiN4】四面体共用顶角构成的三维空间网络且相是由几乎完全对称的六个[SiN4】组成的六方环层在c轴方向重叠而成而α相是由两层不同且有变形的非六方环层重叠而成α相结构对称性低,内部应变比β相大,故自由能比β相高,α相在较高温度下(1400℃~1600℃)可转变为β相因此有人将α—Si3N4称为低温型,是不稳定的,β—Si3N4为高温型,是稳定的。
氮化硅陶瓷能抵御热冷冲击性,在空气中加温到1000℃之上,大幅度制冷再大幅度加温,也不会破裂。
氮化硅陶瓷属高温难溶化合物,无熔点,抗高温蠕变能力强,不含粘结剂的反应烧结氮化硅负荷软化点在1800℃以上。
氮化硅陶瓷化学特性
氮化硅高温氧化受温度和氧分压影响根 据氧分压的不同, 可分为惰性氧化( PassiveOxida- ion)和活性氧化(
Active Oxidation)两类惰性氧 化生成 iO2,试样质量增加; 活性氧化生成 3SiO2 3SiO2 3SiO( 方程式进行,活性氧化按 方程式(
进行有学者通过实验证明,氮化硅 高温氧化, i2N2 212氮化硅陶瓷在碳酸钠熔盐中的腐蚀 Schlicht ing 11]等人研究了氮化硅
陶瓷在碳酸钠中的熔盐腐蚀。
密度:3.1-3.3,抗弯强度:600-800MPa,颜色:黑灰色,纯度:99.9%
制造商:海合氮化硅,特性:频绝缘陶瓷,微观结构:多晶,形状:片形
功能:夹持用陶瓷,产品参数:70*10*10MM,价格:50元/件,产地:新疆哈密市
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