苏州晶淼1402化学操作台

苏州晶淼化学操作台适用于2" -6" 硅片的清洗及湿法腐蚀。
该操作台能够有效的去除硅片表面的油污及其它有机物、除胶、去金属离子等。清洗槽部分包括化学槽、加热槽和快排槽设备的电气、管路、循环系统,均采用进口部件、进口PLC控制,清洗时间可调。可根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元。 各部分有立的控制单元，可随意组合。
设备组成：在线加热、清洗槽、伺服系统、电气控制系统、机架等。可根据用户要求定制。
槽体配置：材料：NPP、PVDF、PTFE、石英、PVC、不锈钢等多种材料。