光学镀膜材料溅射靶材_一氧化硅

中文名称: 一氧化硅
中文同义词: 氧化亚硅溅射靶;一氧化硅微粉末;氧化硅;氧化亚硅溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THIC;氧化亚硅溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THIC;氧化亚硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THIC;氧化亚硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THIC;一氧化硅, OPTICAL GRADE, 99.5% (METALS BASIS)
英文名称: Silicon monoxide
英文同义词: Monox;oxo-silylen;Silylene, oxo-;SiO;silicon monooxide coating quality balzers;silicon monoxide coating quality balzers;SiliconIIoxidegranularmeshbrownpowder;SiliconIIoxidemeshbrownpowder
CAS号: 10097-28-6
分子式: OSi
分子量: 44.09
EINECS号: 233-232-8
用途 用于制光学玻璃和半导体材料。
有关一氧化硅的概述、理化性质、制备方法、用途是由Chemicalbook的丁红编辑整理（2015-11-16）
化学性质 白色立方体或黄土色无定形粉末，在空气中热处理时，黄土色粉末变成白色粉末。熔点大于1702℃。沸点1880℃。相对密度2.13。不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。
用途 一氧化硅微粉末因极富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。
用途 用作光学玻璃和半导体材料的制备
用途 作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。
生产方法 将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合，C/SiO2混合摩尔比为2.0，混合物经减压加热处理，其温度为1600℃，压力为1.013 kPa，经还原反应生成SiO蒸气，通入氩气，将SiO蒸气凝结输送，制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
SiO2+C→SiO+CO