纯水设备处理高纯水设备

产物简介

电去离子（EDI）工艺采纳一种离子选择性膜和离子互换树脂夹在直流电压下两个电极之间（阳极（+）和阴极（-）），在南北极间的直流电源电场从RO预处置过的水中去除离子。
离子选择性膜同离子互换树脂有着雷同的事情道理和原资料，他们用于将某种特定的离子停止分别。阴离子选择性膜容许阴离子透过而不能透过阳离子，阳离子选择性膜容许阳离子透过而不能透过阴离子，这两种膜不容许水透过。经由进程在一个层状、框架势的组件中搁置分歧的阴离子选择性膜和阳离子选择性膜，就树立了并列瓜代的咸水室和浓水室。离子选择性膜被牢固在一个惰性的聚合体框架上，框架内装填混杂树脂就构成咸水室，咸水室之间的层就构成为了浓水室 。
EDI根本反复单位叫做“膜对”，见插图1。模块的膜对搁置在两个电极之间，两电极供给直流电场给模块。在供给的直流电场推进下，离子经由进程膜从咸水室被运送到浓水室。是以，当水经由进程咸水室活动时，慢慢到达无离子状况，这股水流便是产物水流。浓水回流回收率可到达99%。




二、EDI超纯水装备感化及道理

水源的水中含有钠、钙、镁、氯化物、硝酸盐、碳酸氢盐、二氧化硅等消融盐。这些盐由带负电的离子（anion）和带正电的离子（cation）构成。98%以上的离子都可以或许经由进程反渗入渗出（RO）处置得以去除。水源还含有有机物、消融气体（如：O2，、CO2）、微量金属和别的微电离的有机化合物，这些杂质在产业利用进程傍边必需去除（如硼和硅）。RO系统和其预处置也可以或许去除很多这些杂质。
RO产水（EDI进水）的电导率抱负规模一样平常在4-20μS/cm，而依据利用范畴的分歧，超纯水或去离子水的电阻率一样平常在2-18.2MΩ.cm之间。EDI工艺从水中去除不想要的离子，依靠在咸水室的树脂吸附离子，而后将它们迁徙到浓水室中。平日，EDI进水离子越少，其产物水品德越高。

流入EDI模块的RO水被分成为了三股自力的水流：
1. 产水水流（高达99%的水回收率）
2. 浓水水流（一样平常为5~10%，可以或许轮回回流到RO进水）
3. 极水水流（0.5~1%，阳极+阴极同一排放）
浓水室和产水室（纯化）在由变更的阴离子和阳离子渗入渗出膜构成的蜂窝式的客栈中构成单丝屏幕空格。这些构成为了两个截然分歧的、变更的流体腔体。嵌入高聚资料框架的离子选择性膜和装满离子互换树脂构成纯化室。
第3股水流（极水）持续赓续地流过阳极和阴极，阳极液起首流入阳极室，阳极室是位于阳极和临近的阴离子选择性膜之间，在该室PH值降低，产生Cl2和O2。极水流而后流入阴极室，阴极室是位于阴极（-）和一个临近的阳离子选
择性膜之间。在阴极室，产生H2（氢气），是以，极水室排挤不想要的氧气和氢气。
离子互换反响在模块的咸水室中停止，在那里阴离子互换树脂释放出氢氧根离子（OH-）而从消融盐（如氯化物、Cl-）中互换阴离子。异样，阳离子互换树脂释放出氢离子（H+）而从消融盐中(如钠、Na+)互换阳离子。
从水流中去除离子的吸附步调，在模块中的停顿是无限的（类似10~15秒）。当被吸附时，离子仅仅被外在的直流电场驱动迁徙。
一个直流（DC）电场经由进程搁置在组件一端的阳极（+）和阴极（-）完成。电压驱动这些被接收的离子沿着树脂球的外面挪动，而后穿过离子选择性膜进入浓水室。直流电场也裂解水份子构成氢氧根离子和氢离子：
H2O=OH-+H+
这些离子选择性膜不容许水穿过，以是他们对水流来讲是个屏蔽。带负电的阴离子（如OH-、Cl-）被吸引到阳极（+）,而且被阴极排挤。这些离子穿过阴离子选择性膜，进入相邻的浓水室，而不会穿过相邻的阳离子选择性膜，并滞留在浓水室，并随浓水流出浓水室。在咸水室中带正电的阳离子（如H+、Na+）被吸引到阴极（-）,而且被阳极排挤。这些离子穿过阳离子选择性膜进入临近的浓水室，他们在那里被临近的阴离子选择性膜阻拦，并随浓水流出浓水室。
在浓水室中，仍旧保持电中性。从两个偏向运送过去的离子互相互相中和。从电源流过去的电流跟挪动离子的数量成比例。水裂解离子（H+和OH-）和现存的离子都被迁徙而且被加到所请求的电流傍边。当水流流过两种分歧类型的腔体时，咸水室中的离子就会完整被去除，同时被网络到邻近的浓水流傍边，这就可以或许从模块中带走被去除了的离子。
在咸水室中还会产生一个紧张征象，在电势梯度高的特定地区，电化学“分化”可以或许使水产生大批的H+和OH-离子。这些地区中产生的H+和OH-离子在混杂的离子互换树脂中可以或许使树脂和膜赓续再生，而且不必要外加化学试剂。


三、运转进水特征：

如下是所可以或许感包管的***低运转请求。准确值更多地靠近计划目的，就可以获得更抱负的EDI模块机能。
v 水 源： 反渗入渗出RO产水，电导率1-20 μS/cm。***佳电导率在2-10 μS/cm。
v PH值： 5.0 to 9.5 (pH 7.0 至 8.0之间EDI有***佳电阻率机能，但硬度要低于惯例值)，注意到的低PH值进水时因为CO2的存在而招致产水品德降低。
v 温 度： 5°C to 35°C. ***佳品德在25°C。
v 进水压力： 0.15~0.5MPa (1.5~5 bar)，模块压力降取决于流量和温度。
v 出水压力： 浓水和极水出水压力要比产水出水压力低。
v 硬度(以CaCO3计)： ***大1.0 ppm在90%回收率时。
v 有机物： TOC ***大0.5 ppm，倡议检测不出。
v 氧化剂： 活性氯(Cl2)***大 0.05 ppm，倡议检测不出；臭氧(O3)***大0.02 ppm，倡议检测不出。
v 金属： ***大0.01 ppm Fe、Mn、变价性金属离子
v 硅： ***大0.5 ppm. 反渗入渗出RO产水规模是50-150 ppb
v 总CO2： 倡议小于5 ppm. 10 ppm时，产水品德很大水平上依赖于CO2水温和PH值
v 颗粒： 倡议用无颗粒的反渗入渗出RO产水（间接进入）或许将中央水箱的水采纳1μm事后过滤。
EDI技巧与混杂离子互换技巧比拟有如下长处：
①水质稳固
②轻易完成全自动控制
③不会因再生而停机
④不需化学再生
⑤运转费用低
⑥厂房面积小
⑦无污水排放





四、EDI超纯水装备规格选型


型号 计划出水量（T/h） 额外功率（kW） 出水水质（电阻率MΩ·cm） 额外电压（V） 备注
YR-EDI-0.5T 0.5 2.0 15-18.2 380 YR：誉润
EDI：电去离子技巧
1T：每小时的出水量
YR-EDI-1T 1 3.0 15-18.2 380
YR-EDI-2T 2 4.0 15-18.2 380
YR-EDI-3T 3 5.5 15-18.2 380
YR-EDI-4T 4 7.0 15-18.2 380
YR-EDI-5T 5 9.0 15-18.2 380
YR-EDI-8T 8 15.0 15-18.2 380
YR-EDI-10T 10 18.0 15-18.2 380
YR-EDI-15T 15 28.0 15-18.2 380





五、EDI超纯水装备利用范畴

EDI超纯水装备用于微电子和半导体临盆，也用于生物医学和实验室研讨，还用于药品制作业，作为蒸馏的处置，发电进程傍边的汽锅水，食物和饮料业和必要用到去离子水的各类产业范畴。
1、取电子产业临盆如单晶硅半导体集成电路块、显象管、玻壳、液晶显示器等。

2、医药行业用水：制药、制剂工艺用水，医疗血液透析、生化阐发、输液等。

3、制取热力、火力发电汽锅，厂矿企业中、高压汽锅给水所需硬化水、除盐纯水。
4、制取电镀工艺用去离子水、电池（蓄电池）临盆工艺的纯水，汽车、家用电器、建材产物外面涂装、洗濯用纯水。
5、镀膜玻璃用纯水，纺织印染工艺所需的除盐水。
6、石油化工如化工反响冷却、化学药剂、化肥及精细化工、化妆品制作进程用工艺纯水。
7、用于防静电行业的超纯水制备。
8、无尘布用超纯水