氮化硅陶瓷高速压铸机射料室特性之绝缘

氮化硅应用领域
氮化硅陶瓷具有重量轻和刚度大的特点，日本公司研制成功了一种新的粗制泵，泵壳内装有由11个Si3N4 陶瓷转盘组成的转子由于该泵采用热膨胀系数很小的Si3N4 陶瓷转子和精密的空气轴承，从而无需润滑和冷却介质就能正常运转如果将这种泵与超真空泵如涡轮分子泵结合起来，就能组成适合于核聚变反应堆或半导体处理设备使用的真空系统。


氮化硅陶瓷特点
陶瓷材料都是由极细微的粒状原料烧结成的在烧结过程中，这些细微的颗粒就成为大量的结晶中心，当它们发育取向不同的晶粒，并长大到相互接近并受到抑制时就形成品界在晶界上的质点，为要适应相邻两个晶粒的品格结构。氮化硅陶瓷由于它的共价键性，高温扩散系数很小，fM服烧结致出化因此通诺采用汤加剂的方法，如MgO，使之在高温苟ShN d颗粒表浙的5旧2形成坡聪相，在热比条件下，通过汉相扩散机理迅速致密化这层晶界玻璃相虽然很薄(*10A)，但是它对siNd作为高温结构材料使用，却有显著影响。
氮化硅陶瓷物理性质平稳，抗腐蚀，除盐酸外不与别的别的强氧化剂反映，800℃干躁氛围下不与氧产生反映，超出800℃，刚开始在在表层转化成二氧化硅膜，伴随着温度上升二氧化硅膜慢慢变平稳，1000℃上下可与氧转化成高密度二氧化硅膜可维持至1400℃基础平稳。
氮化硅陶瓷因为是键强高的共价化合物，并在气体里能产生金属氧化物防护膜，因此还具备优良的有机化学可靠性，1200℃下列不被氧化，1200~1600℃转化成防护膜可避免进一步空气氧化。


尺寸精度：高可达0.003㎜
光洁度：高可达Ra0.03
同心度：高可达0.003㎜
平行度度：高可达0.003㎜
内孔：小可加工0.04㎜
直槽：窄可加工0.1㎜
厚度尺寸：小可加工0.1㎜
螺纹：小可加工内螺纹M2，外螺纹不限
氮化硅陶瓷生产制造流程


成型过程：注凝技术是坯体中有机化合物成分较小,其摩尔质量一般为3%～5%但抗压强度较高,一般在10MPa之上可对坯体开展机械加工(车、磨、刨、铣、打孔、锯等),进而撤销或降低煅烧后的生产加工。
烧结过程：在特种陶瓷的煅烧全过程中，因为高温能源的激话功效，坯体的总面积降低，缺点浓度值降低，松散多孔结构的生胚会慢慢变为高密度的瓷体，进而使原材料得到预估的组织架构和技术性特性因此，从宏观经济上能够把侥结当作是粉末状结合体变化为高密度煅烧体的全过程；而从外部经济上说，煅烧本质上是在高温能源功效下的化学物质传送全过程。
加工过程磁悬浮抛光技术 利用磁力悬浮现象，在磁流体中加入非磁性磨料，当工件相对磨料进行旋转运动或相对运动时，就实现了工件表面的抛光使用金刚石磨料的磁流体抛光＜12mm的Si3N4圆棒，研抛后表面粗糙度可达Ra40nm。