ALLRESIST成立于1992年,以适中的价格为客户提供的光刻胶产品。得益于的研究部门和与客户的密切联系,ALLRESIST可以快速响应市场需求并持续提供产品创新。自2017年以来ALLRESIST已通过新标准DIN EN ISO 9001:2015和14001:2015的认证。该质量管理体系用于确保ALLRESIST的产品质量始终满足客户需求。下文为您介绍ALLRESIST光刻胶。
1.ALLRESIST光刻胶AR-N 4340
ALLRESIST光刻胶AR-N 4340是用于集成电路生产的高度敏感的负性抗蚀剂。光刻胶AR-N 4340提供高的灵敏度,出色的分辨率,良好的附着力,高对比度,耐等离子刻蚀,后续处理后温度稳定高达220°C,带有光化学产酸剂和胺基交联剂的酚醛清漆。
2.ALLRESIST光刻胶AR-N 2230
ALLRESIST光刻胶AR-N 2230是即用型正负喷涂抗蚀剂,适用于各种应用。光刻胶AR-N 2230一般用于平面晶圆,附着力好,表面光滑,均匀覆盖垂直沟槽,膜厚0,5至1微米,分辨率1微米,闪点37摄氏度,储存6个月后10至18摄氏度。
3.ALLRESIST光刻胶AR-N 4400-05
ALLRESIST光刻胶AR-N 4400-05是用于电镀,微系统技术和LIGA≤20μm的厚负性抗蚀剂。光刻胶AR-N 4400-05的灵敏度,易于移除,具有高边缘陡度的轮廓,可提供出色的分辨率,并覆盖拓扑,适用于大10μm(250rpm)的胶片。
4.ALLRESIST光刻胶AR-P 3110
ALLRESIST光刻胶AR-P 3110是增强粘合力的正性抗蚀剂,用于生产掩模和精细的分度。光刻胶AR-P 3110具有高感光度,高分辨率,对关键的玻璃和铬表面具有很强的附着力,在湿法化学蚀刻过程中承受的应力,用于生产CD母版和晶格结构。