德国MicroResist纳米压印光刻胶mr-NIL210

mr-NIL210 有机可光固化的NIL抗蚀剂，具有出色的干法刻蚀特性。它具有出色的固化和纳米压印性能，特别适用于使用软印模材料（例如PDMS）的软NIL。特征：1）在空气中（存在氧气）也具有出色的固化性能2）对各种基材（如硅，石英或铝）具有出色的干法刻蚀稳定性3）纯有机抗蚀剂，固化后可通过氧等离子体去除残留物应用领域1）蚀刻掩模，用于图案转印工艺（干法和湿法蚀刻）2）纳米结构的制造3）LED，光子晶体4）图案蓝宝石衬底（PSS）5）微电子学6）有机电子产品（OLED，OPV，OTFT）处理步骤旋涂              3000 rpm  持续30 s预烤              60°C持续180 s烙印温度       室内温度压印压力       > 100毫巴辐射强度          mr-NIL210-100nm：100 mW cm -2mr-NIL210-200nm：50 mW cm -2mr-NIL210-500nm：50 mW cm -2可根据要求提供定制的膜厚，大2 µm