ICP刻蚀机

法国ICP刻蚀机，RIE刻蚀机：手动加载RIE系统长达200毫米晶圆真空负荷锁。它由PC控制，软件在Linux下运行。它采用CH4/H2和氯化反应气体为III-V和II-VI族化合物半导体，如GaAs、InP、InGaAsP，硫化腐蚀，碲化镉和碲镉汞。
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工艺设备：真空镀膜机；离子束刻蚀机，ICP刻蚀机，IBE刻蚀机；等
， info@grantech.net.cn，
产品线丰富，元素分析:原子吸收,气相色谱，液相色谱，气质联用，紫外分光光度计等；
热分析等；红外光谱仪
材料表面分析：原子力显微镜，光学轮廓仪，摩擦磨损试验机，等；
通用分析：扫描电镜，