不同奥氏体化温庆淬火并在560℃回火3次,每次保温1小时获得的硬度。
奥氏体化温度℃:1020℃ 硬度58HRC
奥氏体化温度℃:1060℃ 硬度60HRC
奥氏体化温度℃:1100℃ 硬度62HRC
奥氏体化温度℃:1140℃ 硬度64HRC
奥氏体化温度℃:1180℃ 硬度66HRC
CVD表面处理:化学气相沉积CVD是在1000℃左右的温度下在表面产生耐磨涂层。建议模具或工件配件在表面处理后应在真空炉里重新淬火和回火。
塑料成形同的零件:如螺杆、料筒、喷嘴、注射头、制粒刀、粉碎刀等。
半导体IC模具的使用:如封模,滑块等。