CMP厂家供应SH-Q30K15氧化锆手机陶瓷后盖抛光垫、抛光皮

陶瓷抛光垫

东莞厂家研发生产SH-Q30K抛光布，用于陶瓷后盖抛光、氧化锆抛光，该抛光垫抛光皮广泛应用于硅(Si)、锗(Ge)、砷化镓（GaAs）、蓝宝石、水晶陶瓷等粗抛以及精密抛光。日本的信越半导体（硅片）、京瓷（蓝宝石）、并木（蓝宝石）、俄罗斯MonoCrystal（蓝宝石）、等多家公司都在使用该抛光布。
物性说明：
品名 (ARTICLE NO)： SH-Q30K
用途 (FOR USES) ： CMP *粗研磨用
物理性质各项参数 ( PHYSICAL PROPERTIES )
项目 重量 厚度 密度 压缩率 弹性率 硬度 绒长 开口径
单位 g/m2 mm g/m3 % % Asker C μm μm
测定值 645 3.0 0.54 0.97 63 82 -- --
TEST
METHOD JIS-
K6328 JIS-
K6328 JIS-
K6328 JIS-
L1096 JIS-
L1096 JIS-
K6301 OWN
METHOD
(物理性质数据只是测定数值，不作为规格数值。)(The above is not standard, but measured figures.)产品特点：
v 能提高研磨效率，研磨面的表面状态如均匀的毛玻璃状态；
v 采用高硬度的不织布，使用寿命长；
v 可以用来金属的研磨，并可以使用研磨砂，有相应实绩；
v 可以根据用户要求开槽。
同比市面上较多的罗门哈斯SUBA系列抛光布具有以下优点：
v 抛光寿命更长
v 价格更加低廉
v 性能与SUBA系列持平