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电镀电源经历了四个发展阶段：
　　(1) 直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大．已经被淘汰。
　　(2) 硅整流阶段是直流发电机的换代产品，技术十分成熟，但效率低，体积大，控制不方便。目前，仍有许多企业使用这种电镀电源。
　　(3) 可控硅整流阶段是目前替代硅整流电源的主流电源，具有、体积小、调控方便等特点。随着核心器件——可控硅技术的成熟与发展．该电源技术日趋成熟，已获得广泛应用。
(4) 晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今为的电镀电源，它的出现是电镀电源的一次革命。这种电源具有体积小、、性能、纹波系数稳定．而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是发展的方向，现已开始在企业中使用了。

如今，各种电镀设备和配置基本上都是以单一镀槽为单元的配置.其中除了滚镀应用了机械操作外，其他既可以是手工生产装置，也可以是自动生产线上可用的装置。 这种自动线会有很多传感器监测各种参数，特别是电镀工艺参数，比如电流密度、温度、pH值等，都应该在正常范围内波动,当变动值超过规定的工艺范围，被监测到的讯号会转化为相应的设备动作，向镀液内补充相应的原材料.可以实现全自动补加的成分包括主盐溶液(将主盐先溶解在一定量的蒸馏水中，由控制阀在接受到相关指令后再排除)、辅助盐溶液、pH调节剂、光亮剂、添加剂等。如果是采用阳极篮，则阳极材料要选用角状或球状阳极，这时也可以实现阳极材料的自动补加。

化学镀是一种自催化还原工艺。当镀液中有细小固体微粒时,则成为催化还原中心,镀液中的本含量就不高的主盐金属离子,不是在工件上而是在这些微粒上很快还原而消耗掉,镀液会很快失效而报废。只有及时通过过滤去除这些微粒,才能或延长化学镀液的使用寿命。

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