南京杜笙抛光树脂光伏清洗水树脂MB-115

型式 强酸性阳离子交换树脂 强碱性阴离子交换树脂

主体结构 交联聚苯乙烯 交联聚苯乙烯

官能基 磺酸基 I 型季胺官能基

物理性质 球状颗粒 球状颗粒

离子型式 氢型 氢氧型

粒径范围 16-50 16-50

粒度范围 0.3-1.2mm 0.3-1.2mm

微粒含量 小于 0.3 的 2％经过 40 sh 小于 0.3 的 2％经 40 sh

总交换容量 1.8 meq/ml

PH 范围 0-14 0-14

允许温度 120℃ 80℃

溶解率 不溶于任何常见溶剂 不溶于任何常见溶剂

超纯水抛光树脂是一种常用于光学元件制造中的材料。它具有高透明度、高抛光效果和低残留物的特点，可以用于对光学元件表面进行抛光和修饰。 超纯水抛光树脂通常由聚合物材料制成，其中可能包含一些添加剂和填料。这些材料经过特殊的制备工艺，使其具有高度纯净的特性，以避免在抛光过程中产生杂质和残留物。 在使用超纯水抛光树脂进行抛光时，通常需要将光学元件浸泡在超纯水中，并施加适当的压力和运动，以实现表面的平整和光滑。这种抛光过程可以去除元件表面的微小缺陷和瑕疵，提高其光学性能和透明度。 超纯水抛光树脂在光学元件制造、光学仪器和光学通信等领域中具有广泛的应用。它可以用于制造透镜、棱镜、光纤等光学元件，以及光学系统的组装和调整过程中。

半导体抛光树脂是一种用于半导体制造过程中的材料，主要用于抛光半导体晶圆的表面。它能够去除晶圆表面的缺陷、氧化层以及其他污染物，使晶圆表面变得平滑，以提高半导体器件的性能和可靠性。 半导体抛光树脂通常由有机聚合物、磨料和添加剂组成。有机聚合物作为基础材料，能够提供树脂的粘结性和抛光性能；磨料则起到研磨晶圆表面的作用，常见的磨料有二氧化硅、氧化铝等；添加剂则用于调节树脂的黏度、pH值等特性，以及提供一定的抗氧化性能。 在半导体制造过程中，半导体抛光树脂通常通过机械抛光的方式应用于晶圆表面。晶圆被放置在旋转盘上，树脂涂敷在晶圆表面，然后通过旋转盘和抛光垫的摩擦作用，使树脂中的磨料研磨晶圆表面，达到平滑和去除缺陷的效果。 半导体抛光树脂具有良好的抛光性能、稳定的化学性质和可靠的机械性能，可以满足半导体制造过程中对晶圆表面质量的要求。同时，它还能够减少晶圆表面的残留污染物，提高半导体器件的性能和可靠性，因此在半导体制造工艺中得到了广泛应用。

蒸馏水就是加热成气体又冷凝的水,有时候也是纯化水的一个通称.
去离子水就是通过离子柱吸附除去了大部分离子如钠、镁等的水,纯度没有蒸馏水高.
高纯水比去离子水纯度更高,是指将水中的导电介质几乎全部去除,又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水.
超纯水比高纯水纯度更高,既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水.
后三种都主要是通过过滤、吸附、膜渗透等方法得到,理论上不如蒸馏水纯度高.但通过蒸汽来制纯水效率很低,而且超纯水的纯度已经足够做常见的事情.
采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。 超纯水机又称做：超纯水器，超纯水设备，超纯水仪，超纯水系统，实验室超纯水器等。 超纯水机所生产的超纯水电阻率一般应大于10兆欧，10兆欧以上的水才叫超纯水。超纯水出水能达到18.25兆欧。

超纯水初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，如今超纯水已在生物、医药、汽车等领域广泛应用。这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有、病毒、含氯等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。超纯水,是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18MΩcm，接近于18.3MΩcm则称为超纯水。

Tulsimer MB-115：原装进口低阶核子级抛光树脂，进水电阻率10兆欧以上出水可稳定达到17.5兆欧，有 ，处理水量大：1L树脂可处理60-80吨水；

进口抛光树脂

总氮吸附树脂，除总氮树脂，脱氮树脂A-62

科海思除镍树脂CH-90螯合树脂

除氟树脂CH87氟化物吸附离子交换树脂

贵金属回收技术贵金属回收树脂CH-95

回收贵金属技术钯铂铑回收树脂CH-95

贵金属废液提取吸贵金属树脂CH-95

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