联系人鲍经理
胶水是生活中常用来作修补的材料,但对于一些特殊的材料,例如金属、陶瓷、水泥或者玻璃等的粘接和修补,对胶水的要求除了要附着力好,还有一点就是耐高温。
胶粘剂就是通过粘合作用,能使被粘物结合在一起的物质,胶粘剂是通用的标准术语,亦包括胶水、胶泥、胶浆、胶膏等。

光刻胶不仅具有纯度要求高、工艺复杂等特征,还需要相应光刻机与之配对调试。一般情况下,一个芯片在制造过程中需要进行10~50道光刻过程,由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等,不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样,即使类似的光刻过程,不同的厂商也会有不同的要求。

光刻光路的设计,有利于进一步提升数值孔径,随着技术的发展,数值孔径由0.35发展到大于1。相关技术的发展也对光刻胶及其配套产品的性能要求变得愈发严格。
工艺系数从0.8变到0.4,其数值与光刻胶的产品质量有关。结合双掩膜和双刻蚀等技术,现有光刻技术使得我们能够用193nm的激光完成10nm工艺的光刻。
为了实现7nm、5nm制程,传统光刻技术遇到瓶颈