测量工件尺寸:通过点与点之间的距离得出结果,或使用“构造对称线”等方法找基准原点C。
查看形位公差和孔的位置度:先选基准再选被测,根据配合情况选择MMC或S原则,并输入理论值进行合格判定。
纳米级扫描电子显微镜(SEM)探索微观世界:扫描电子显微镜利用聚焦电子束在样品表面扫描,激发二次电子等信号来成像,其分辨率可达到纳米级,甚至亚纳米级。在材料科学、生物医学、半导体技术等领域,SEM成为研究微观结构、表面形貌和化学成分的重要工具,为精密量测和科学研究开辟了全新的视角。
选择合适的测量工具:根据待测尺寸的大小、形状和精度要求选择合适的测量工具。
正确操作测量工具:在使用测量工具时,应严格按照操作规程进行,避免因操作不当导致的测量误差。
注意测量环境:测量环境对测量结果有一定影响,应尽量选择温度稳定、光线充足、无振动和电磁干扰的环境进行测量。
多次测量取平均值:为了提高测量精度,可以多次测量并取平均值作为终结果。