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半导体级直拉法的工艺控制\进入21世纪以来,随着新兴产业的科技创新,半导体行业得到了的发展。半导体产业发展迅猛,尤其近几年,大力发展半导体产业,缩短该行业与世界水平的差距。目前虽然有许多新兴材料来替代硅材料,但未来几年可以预见,硅材料由于其成熟的技术品质和稳定的物理化学性质,将会在相当长的一段时间里是主流材料。硅单晶作为主要材料,应用的领域也是相当广泛的。硅单晶是由多晶硅原料经过物理变化,让硅原子按照人为设定的方向进行生长,终形成的。一般会采用直拉法进行制备。晶圆的直径越大,集成电路制造的成本将会越低,因此要求作为材料的硅单晶的直径也要相应的增大。这里面涉及到了一系列问题。这篇论文主要讨论的是通过对热场的设计,工艺的过程控制,减少位错的产生,以及通过化学腐蚀对位错进行检测的相关问题。 
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其次，国产设备相比进口设备拥有明显的成本优势，行业平均价格只有进口设备的1/36；本生产的全自动单晶硅生长炉产品主要服务于行业排名前列的大型客户，产品销售价格虽然明显其他国内厂商，但售价仍然只有国外同类设备的2/3 左右，因此，使用国产设备可以大大降低国内硅片企业的设备投资成本。再次，国内企业还拥有贴近市场、反应迅速、服务便捷的明显优势。凭借这些优势，国产光伏设备不仅占据了国内绝大部分市场，还实现了批量出口亚洲市场，少量出口到欧美市场。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，单晶炉型号定义\单晶炉型号有两种命名方式，一种为投料量，一种为炉室直径。比如85炉，是指主炉筒的直径大小，120、150等型号是由装料量来决定的\单晶炉主要需要控制的方面一、晶体直径（尺寸）二、温度（功率控制）三、原料（硅料）四、泄漏率，质量等\本文由rxl提供，欢迎大家完善
