日本进口高纯度钽靶Ta靶4N

2023-11-17 08:56:35
·用于薄膜形成的材料
- PVD材料
·溅射靶材(溶解工序品、烧结工序品)
·蒸镀材料
- CVD材料
·用于层间绝缘膜形成的材料(TEOS、TMB、TMP、TEB、TMOP、TEOP、etc.)
·ALD材料(3DMAS、TDMAH、Taimata、TEMAZr、etc.)
·高/强诱电体、电极形成用材料(PET、HTB、etc.)
- CSD材料(MOD涂层、液化凝胶涂层)

·无机材料
- 金属材料(粉碎加工品、雾化粉末、其它)
- 无机化合物(氧化物、氮化物、硫化物、卤化物、其它)
-Smartec系列产品(特定温度保温材料、热膨胀抑制剂)
高纯度金属 Al, Co, Cu, Fe, Mg, Mn, Sn
高熔点金属合金 Cr,Mo,Nb,Ta,Ti,V,W系列的合金
非磁性合金 Al, Bi, Cu, Mg, Sn, Zn系列的合金/ Bi2Te3, Mg2Si
磁性合金 Co, Fe, Ni系列的合金/ Co-Fe-B, Co-Pt, Fe-Pt
赫斯勒合金 Co, Fe, Ni基赫斯勒合金
Mn系列的合金 Mn-Al, Mn-Bi, Mn-Ga, Mn-Ir, Mn-Si
贵金属合金 Au,Ag,Pt,Pd系列的合金</a>
标签:钽靶Ta靶
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