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单晶炉真空系统的除尘技术为便于分析研究起见，将整个除尘过程分为有联系而又有区别的如下三个过程。捕集分离过程该过程可分为捕集推移阶段和分离阶段。 捕集推移阶段 均匀混合或悬浮在气体中的粉尘进入除尘器的除尘空间，根据不同的除尘器类型经受不同的外力作用，将粉尘推移到分离界面。随着粉尘向分离界面推移，浓度也越来越大，故捕集推移阶段实质也是粉尘浓缩的阶段。分离阶段 高浓度的尘流向分离界面以后，有两种机理在起作用：气体运载粉尘的能力将达到极限状态，悬浮与沉降这对矛盾中，沉降成为主要方面，通过沉降，粉尘从气体中分离出来。极限状态的影响因素一般与气流速度及边壁的边界条件有关。
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单晶硅生长炉原理简介单晶硅生长炉的特点\单晶硅生长炉是通过直拉法生产单晶硅的制造设备。主要由主机、加热电源和计算机控制系统三大部分组成。1、主机部分：机架，双立柱\双层水冷式结构炉体\水冷式阀座\晶体提升及旋转机构\坩埚提升及旋转机构\系统\真空系统及自动炉压检测控制\水冷系统及多种安全保障装置\留有二次加料口2、加热器电源：全水冷电源装置采用专利电源或原装进口IG及超快恢复二极管等功率器件。配以高频变压器，构成新一代高频开关电源。采用移相全桥软开关（ZVS）及CPU控制技术，提高了电能转换效率，不需要功率因数补偿装置。3、计算机控制系统：采用PLC和上位工业平板电脑PC机，配备大屏幕触摸式HMI人机界面、高像素CCD测径 ADC系统和具有知识产权的“全自动Cz法晶体生长SCADA监控系统”，可实现从抽真空—检漏—炉压控制—熔料—稳定—溶接—引晶—放肩—转肩—等径—收尾—停炉全过程自动控制。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，锻造加热[用于棒料、圆钢，方钢，钢板的透热，补温，兰淬下料在线加热，局部加热，金属材料在线锻造（如齿轮、半轴连杆、轴承等精锻）、挤压、热轧、剪切前的加热、喷涂加热、热装配以及金属材料整体的调质、退火、回火等。] 热处理调质生产线[主要供轴类（直轴、变径轴，凸轮轴、曲轴、齿轮轴等）；齿轮类；套、圈、盘类；机床丝杠；导轨；平面；球头；五金工具等多种机械（汽车、摩托车）零件的表面热处理及金属材料整体的调质、退火、回火]等。欢迎现场看货。
