真空度低解决方法:清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊;检查抽真空系统;降低环境湿度。 ②薄膜释放气体 解决方法:薄膜预干燥;延长抽真空时间。 ③喷铝过多解决方法:提高车速;降低蒸发舟电流;降低送铝速度。 ④蒸发舟内有杂质 解决方法:清洁蒸发舟及热屏蔽板。 ⑤蒸发舟老化 解决方法:更换蒸发舟。 补充: 以上不知道有没有帮助。镀铝发雾的问题我就不知道了,不好意思。 追问: 不好意思,我没有说你才疏学浅的意思- -#,我意思说就像发黄的原因有:1, 真空度过低;延长抽真空时间 2, 镀膜时有其他放气源影响镀膜效果,比如夹具或胶纸 3,镀膜时间过长;喷铝过多 4,镀膜电流过高
3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和
高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关,延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。
3. 开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200mA左右,帘栅为20V/100mA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。 1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。
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在简易隔离式偏压电源设计中,非对称半桥反激电路是关键。它通过同步降压电路提供隔离电源,类似于同步降压调节器的工作原理。输入电压驱动的场效应管(FET)驱动电感电容滤波器,随后通过分压器和误差放大器的协同作用,调整滤波器输出,保持DC电压稳定。特别之处在于,电感电路中的耦合绕组和二极管设计巧妙地解决了负载电压调节的难题,通过二极管的直流电压调整,提升了负载调节的精度。如果采用场效应管替代,性能将进一步提升。
总结起来,真空多弧离子镀膜机的偏压电源是一个精密调控的系统,它通过复杂的电路设计,确保了离子的加速和沉积过程,从而实现的涂层工艺。无论是直流还是脉冲电源,每一环节都对终的镀膜效果有着至关重要的影响。
真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,
JTPZ多功能镀膜技术及设备(加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机),针对汽车、摩托车灯具而设计的,在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜,这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事保护膜;防潮增透膜;防锈抗腐蚀;耐磨增硬膜。
离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。
装饰真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置,在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔融汽化,汽化了金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。
该设备具有:结构合理,膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作同期短、生产、操作方便,能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龙、金属、波丽、玻璃、陶瓷、TPU等。
镀制效果有:普通电镀亮面、哑面(半哑、全哑)、工艺电镀皱纹、拉丝、雨滴、七彩等;镀制颜色有:金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等等。