纳米硅/石墨复合材料高速分散机，纳米硅/石墨在溶剂中的分散混合

       纳米硅/ 石墨复合材料高速分散机，纳米硅/石墨在溶剂中的分散混合，纳米硅/石墨溶液分散机，石墨复合材料分散机，新型锂离子电池负极材料分散机

对于想要放大到工业化生产的研发，shou要的是研究者需要确定在实验室阶段选择的任何设备都可以转移到生产规模模型。较大容量的型号具有相同的技术才能在终产品中获得所需的结果。

目前随着全qiu性石油资源紧缺与气候环境的不断恶化，发展清洁节能的新能源汽 车受到世jie各国的高度重视。新能源汽车的发展，关键在其动力电源。目前，商业化的锂离 子电池主要采用石墨类负极材料，但它的理论比容量仅为372mAh/g，无法满足未来锂离子 电池对高能量密度的需求。所以开发新型电极材料成为研究zhong点。

硅具有的理论比容量(4200mAh/g)和较低的脱锂电位(〈0.5V)，且硅的电压平 台略石墨，在充电时难引起表面析锂，安全性能更好，硅成为锂离子电池碳基负极换代 的富有潜力的选择之一，但硅作为锂离子电池负极材料也有缺点：（1)硅材料在充放电过程 中容易发生体积膨胀，导致导电网络崩塌，影响电循环性能；（2)硅是半导体材料，自身的电 导率较低，在充放电循环过程中，锂离子的脱嵌会导致材料发生300%以上的体积膨胀和收 缩，从而造成材料结构的破坏和粉化，致使容量迅速衰减，循环性能恶化。（3)硅材料在循环 过程中易腐蚀，容量衰减；（4)由于硅材料的体积效应，在电解液中难以形成稳定的固态电 解质界面(SEI)膜，伴随着电极结构的破坏，在暴露出的硅表面不断形成新的SEI膜，加剧了 硅的腐蚀和容量衰减。

将所述纳米硅/石墨在乙醇溶剂中搅拌分散lh，将层数为50层的氧化石墨烯加 入所述纳米硅/石墨溶液中混合，混合比例为X:X，持续搅拌IOh，然后喷雾造粒得到纳米硅/ 石墨/石墨烯复合材料。

分散技术三要素：分散介质、分散剂和分散设备

1、分散介质

（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和有机溶剂，纳米粉体管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料

（2）本文件介绍的纳米粉体管分散技术，针对中、低粘度分散介质

2、分散剂

（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关

（2）分散剂的用量，与纳米粉体比表面积和共价键修饰的功能基团有关

（3）水性介质中，推荐使用。强极性有机溶剂中，如醇、DMF、NMP， 推荐使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶，推荐使用TNEDIS 

3、分散设备

（1）超声波分散设备：非常适合实验室规模、低粘度介质分散，用于中、高粘度介质时会受到限制

（2）研磨分散设备：适合大规模地分散、中粘度介质分散

（3）采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法，可以、稳定地分散。

纳米硅/ 石墨/石墨烯复合材料高速分散机用了二级处理结构，第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，（2P剪切力弱，为粗齿，8SF剪切力强，为超细齿）且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进，可提供可靠的可扩展性，可重复性和性能。我们新的设计融合了许多创新，提供更多应用多功能性，更易于清洁和维护。

从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

分散机的优势：

处理量大，适合工业化在线连续生产；

粒径分布范围窄，匀度高；

省时、、节约能源；

精密铸造的整体式机架和经精密动平衡测试的道转子，确保整机运行噪音低、运转平稳；

消除批次间生产品质的差异；

无死角，物料全部通过粉碎分散剪切；

具有短距离，低扬程输送功能；

使用简单，维修方便；

可实现自动化设置；

集装式机械密封，物料无泄漏；

处理工艺：

混合：浆、香波、洗涤液、果汁浓缩液、酸奶、甜点、混合奶制品、油墨、瓷釉。

分散混合：甲基纤维素溶解、胶质体溶解、碳化物溶解、油水乳化,预混合、调味料生产、稳定剂溶解、烟尘、盐、氧化铝、农药

分散：悬浮液、药丸包衣、药物解聚、涂料分散、唇膏、蔬菜浓汤、芥末混合物、催化剂、消光剂、金属、颜料、改性沥青纳米材料的制备和解聚。

乳化：药乳液、药膏、雪花膏、面膜、面霜、乳化香精、油水乳化、乳化沥青、树脂乳化、蜡乳化、水性聚氨脂乳化、农药。

均质：药乳液、药膏、雪花膏、面膜、面霜、组织匀浆、奶制品均质、果汁、打印墨水、果酱。

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%

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