气相二氧化硅分散难点,沉淀法二氧化硅分散混合机,

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气相二氧化硅分散难点,沉淀法二氧化硅分散混合机,分散设备工作原理二氧化硅粉液混合机

二氧化硅的重要用途】:   二氧化硅的用途很广。自然界里比较的水晶可用以电子工业电子的重要部件、光学仪器和工艺品。  气相法二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,由于其粒径很小,因此比表面积大,表面吸附力强,表面能大,化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能,以其的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在众多学科及领域内特性,有着不可取代的作用。气相二氧化硅质量小,很轻,极易飞扬,广泛应用于化妆品等行业。通常用作补强剂,稳定剂或粘度调节剂。  

二氧化硅的分散难点

二氧化硅加工的难点在于湿化并达到相应的粘度。而且和水(溶剂)混合后容易团聚,IKN在这个行业拥有丰富的经验,能够满足不同客户的要求。

IKN混合设备在二氧化硅的分散中的优势

①消除粉尘。IKN为气相二氧化硅与水的混合,设计多种解决方案。粉体直接从包装袋中吸入,或者可以跟您的工程师一起特殊定制工艺。

②改善容器清洁问题。使用IKN在线粉体液体混合系统,能够消除容器壁的物料残留,改善清洁,并减少原材料浪费。

③化成分功能。很多公司在湿化二氧化硅工艺上都遇到困难,通常需要足够的剪切力来达到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供这种类型的剪切分散机,为二氧化硅湿化混合提供足够的剪切力。

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面对粉末难易团聚,难以分散,粉尘飞扬的粉体处理工艺中***常见的问题,IKN依肯研发了PLD2000系列产品,用于解决粉液在线混合分散的问题


PLD2000设备的特殊结构和工作原理:装备了一个特别设计的转子,一个入口进液体,一个入口进粉体,使两相在瞬间接触时就能及时的将粉体打散。机器可以循环操作直到所有粉末加入完毕,然后密封加料入口,在腔体中继续分散混合。根据产品要求,粉末的性状,添加量可达80%。另外,如果粘度过高,也可在入口前加一台泵。

IKN在线粉液混合机可以地将不同种类的粉末和颗粒不结块地进行润湿和分散在液体中。

IKN  PLD 2000的优点:

1的吸入系统,吞吐量大

2简单而坚稳的设计

3自动调节固体和液体的供应

4无需额外的配料装置

5封闭系统,防止灰尘和溶剂的排放

6润湿颗粒,从而防止结块的形成

7拆包卸料,不损失原料

8大大缩短生产时间

9通过更有效地碎裂原料,减少原料的添加

10紧凑的生产方法

11 开发了易于升级的过程,将实验室机器PLD用于生产机器PLD

12 机器可自动排水,具有CIP 清洗 和SIP功能

13 所有接触液体的部件为316L或316 Ti不锈钢

14完全自动化

15符合3A卫生和认证

16根据需要提供医药级别设备

IKN工程师和应用可协您解决关于机器PLD安装到您现有的工艺系统中或关于拓宽整套新型生产设备供应范围的问题。

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