氧化还原法制备石墨烯的工艺及石墨烯制备设备

设备名称：鸿峰牌CVD化学气相沉积炉

设备用途：
真空CVD化学气象沉积炉主要用于实验室新型炭材料和膜材料的化学沉积实验,属于管式高温回转炉。

该设备烧结温度可达1150℃,;可配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通
过三路质量流量计控制不同气体体,是为石圆生长、研发的炉,也同样透用于要求升降温速度
比较快的CVD实验


鸿峰化学气相沉积炉的主要特点：


1.滑动式炉体结构实现快速升降温
2.开启式盖设置,降低沉积温度、加快沉积速度
3.日本进口温控仪表,64控温程序,分段式加热控制
4.双极旋片真空原+分子原,实取对真空度的不同要求,极限真空可达10E-4pa

5.加热区稳定温度可达1150℃
6.工作电压:AC220v50/60Hz;功率;4KW
7.炉体采用高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小

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售后与保修：

鸿峰牌CVD化学气相沉积炉整机一年保修(相关耗材除外）；终身维护，质保期起始日为设备到达客户现场天。