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二氧化硅气凝胶研磨分散机,新型二氧化硅气凝胶胶体磨

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二氧化硅气凝胶研磨分散机,新型二氧化硅气凝胶胶体磨,水性二氧化硅气凝胶溶液胶体磨,二氧化硅气凝胶高速分散机,二氧化硅溶液研磨分散机,德国研磨分散机,高剪切研磨分散机,循环式研磨分散机,高速剪切研磨分散机,在线式研磨分机,管线式研磨分散机,中试型研磨分散机

IKN研磨分散机 采用优化设计理念,将先x的技术与创x的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了. 能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到的清洗。
二氧化硅气凝胶、无粉尘,隔热保温效果,气凝胶浆料固含可根不同要求进行调整配制,提高了使用性和灵活性,实现了率的保温,为保温行业大范围使用创造了条件!

二氧化硅气凝胶的制取方法一般通过气凝胶块的研磨获得。用作保温绝热,空气净化,水处理等功能结构夹层、填充层,或与其他材料复合、粘连使用。

气凝胶,又称为干凝胶。当凝胶脱去大部分溶剂,使凝胶中液体含量比固体含量少得多,或凝胶的空间网状结构中充满的介质是气体,外表呈固体状,这即为干凝胶,也称为气凝胶。如明胶、阿拉伯胶、硅胶、毛发、指甲等。气凝胶也具凝胶的性质,即具膨胀作用、触变作用、离浆作用。

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前国x设备转速的4-5倍。
从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:
1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)
2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)
5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素,速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的
CMD2000系列研磨分散机设备选型表

型号 流量
L/H 转速
rpm 线速度
m/s 功率
kw 入/出口连接
DN
CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15
CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32
CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65
CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65
CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

研磨分散机的优势:
更稳定 采用优化设计理念,将先x的技术与创x的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了.
新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,线速度的吸料式叶轮提供切割力
更可靠 采用整体式机械密封,大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.</a>

上海依肯机械设备有限公司为你提供的“二氧化硅气凝胶研磨分散机,新型二氧化硅气凝胶胶体磨”详细介绍
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