实验室研磨机，批次式剪切研磨机

CMSD2000实验室研磨机，批次式剪切研磨机，CMSD2000高速研磨机，小体积可控温研磨机，变频调速研磨机

       采用研磨机制备细微化混悬液/助剂/药液等，需要研究不同的研磨工艺参数对颗粒粒径或分散液稳定性的影响。实验室在进行基础性研究工作时，需要有一套适合实验室使用的设备进行理论或规律研究。然而，采用大型设备或小型砂磨机都不适合研究工作，有诸多弊端，比如购置设备的成本高，通用性差，浪费材料，从而限制了对各种参数的规律探索。

       依肯的研磨设备在转速和剪切速度上远高出同lei研磨机4-5倍，作用效果更加显zhu；设备材质上采用316L环保合金材质，符合食品医药卫生GMP机FDA生产要求；内部suo有配件均耐得住设备的高运转，使用寿命长久；采用变频调速，可灵活应用于研究制备新产品及放大生产；依肯设备可以小试实验的结果在同等参数、环境下放大到中试及工业化中的效果是一样的，只需线性放大物料参数即可。

（小型实验室研发制研磨机  电机处用防护罩加盖，以防灰尘及其他物品掉入电机，影响设备使用及保障制药卫生；机身采用316L环保合金，设备可通液体介质（水、油、液相介质等）加热或冷却；高经度的设备内表面光洁度，保障制药卫生，适用于GMP车间，复合FDA要求。）

（中试型真空剪切机，适用于中试生产，无jun，无残留，内置高速刮边搅拌机，可采用间歇式/连续式生产方式，生产过程中温度可控，设备效率快，效果好，灵活性高，可根据需求改装成胶体磨、乳化机、分散机、混合机等）

      简易型实验室高速纳米研磨机由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，同时，可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力，从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面ling先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

IKN研磨分散机可在制药，食品和精细化工行业中实现均匀的粒度分布和解聚集分散，帮助能够减少或规避资本支出，同时提供改进的成品。IKN研磨分散机采用了二级处理结构，第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，（2P剪切力弱，为粗齿，8SF剪切力强，为超细齿）且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进，可提供可靠的可扩展性，可重复性和性能。我们新的设计融合了许多创新，提供更多应用多功能性，更易于清洁和维护。

球磨机/砂磨机：锆珠易损，引入杂质，更换维修成本高；

国内胶体磨/研磨机/分散机：转速普遍2930rpm，不超过3000rpm，作用力弱，粉碎研磨细度不够，浆料稳定性差；

德国IKN研磨分散机（改进型胶体磨/改进型分散机）：转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更强，粒径更小，分布范围更窄，浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的，一致的和可重复的粒度分布。

CMSD 2000系列研磨机设备选型表：

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%。

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