操作说明
1、开箱后,检查零件有否松脱;
2、机器放置在通风干燥的地方,确保机器处于水平位置;
3、按清洗所需加入适量的清洗液于清洗槽内;
4、如需加温,则启动加热控制器(数字显示),将温度旋转调至所需温度,温度以0-110℃(正常情况下,40-80℃);
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5、正确连接电源插头:请务必确保所供电源可靠接地!
6、停止清洗过程:
1)、旋转超声定时器开关至“OFF”关闭位置,超声波运行停止,指示灯熄灭;
2)、旋转加热控制器至“OFF”位置,指示灯熄灭;
3)、断开整机电源;
4)、倒掉清洗液,用干净抹布对槽体及外围进行清洁保养,以备下一次使用
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清洗工艺
1、清洗工序的设定要根据污染的类型,污染程度,处理批量来决定,譬如,眼镜片的清洗一般要10个工序。在使用水系清洗剂时,基本的工序制定如下:
2、超声波清洗(水系清洗剂)→超声波清洗(纯水、自来水)→脱水 (干燥)
3、干燥处理对清洗物的清洗性优劣非常重要,常见的干燥方法有热风干燥、通风干燥、真空干燥、离心脱水干燥、IPA提升干燥等,可按照生产批量、成本、产品精度、被洗物形状等加以选择。
4、工业用超声波清洗机多为单槽或双槽式、自动清洗形式的清洗机也有多槽形式。近年来,半导体行业用的清洗方式大多采用带950KHZ超声槽的单枚式“US喷淋”高频清洗,可得到的清洗结果,“US喷淋”的方式是将载有950KHZ超声波所形成的水帷幕,用于液晶玻璃、电路芯片的超精密清洗,尘粒子可接近“零”的程度。
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