供应批发低浓度镀铬添加剂铬走位添加剂镀铬添加剂电镀添加剂

低浓度镀铬添加剂 铬走位添加剂

一、工艺特性：

1、铬走位添加剂系统为装饰铬之低浓度镀铬添加剂, 大量降低了铬酐用量，节约成本；同时大

量降低了废水排放，降低废水处理成本，更加环保。

2、覆盖能力佳,在实验室条件下(杂质被有效控制),哈氏槽试片镀层可达完全的9cm。

3、可在较低之温度及电流密度下操作,节省能源消耗。

二、组成和操作条件：

组成及条件 操作范围 建议值

铬酐 120 – 160 g/l 140 g/l

硫酸 0.3 – 0.8g/l 0.45 g/l

CR-88 12 – 220ml/l 15 ml/l

三价铬 1-2.5 g/l 1.5 g/l

电流密度 8 – 35 A/dm2 15 A/dm2

温  度 25 – 46 ℃ 35 ± 1 ℃

三、槽水配制：

1、注入槽积量 60-70%的纯水.

2、于搅拌中加入计量好的铬酐,搅拌至完全溶解; 

3、分析酸根后,加入不足的酸根,再加入计量好的铬走位添加剂,并充分搅拌均匀;

4、用纯水补足至液位,搅拌均匀.调整至操作温度即可正式操作。

四、管理维护：

１、铬酐浓度控制在120 – 16 0 g/l为宜, 浓度过高或过低均会影响覆盖能力。

２、每次补充添加铬酐时，应添加铬走位添加剂，即补充50kg铬酸需添加3000 ml的铬走位添加剂。

３、铬酐与酸根的比率,维持在200 ：0.7左右(随操作温度高低而定),酸根含量相对

过高时,覆盖力差,过量的酸根可用碳酸钡除去。2克碳酸钡可去除1克硫酸。

４、较低温度操作,铬酸：酸根的值要较大,且铬走位添加剂要足量,才能达到90%以上的覆盖率。

5、阳离子的去除：在钢铁管件的镀铬过程中，会有大量的金属铁溶于镀铬槽中，同时

因为挂钩、导加热棒的腐蚀，镀铬槽中也不可避免地含有铜。铜、铁杂质会大大降低镀

层的覆盖能力（走位差），并在高电区镀层容易“烧焦”。尽量去除铜、铁杂质的污

染。去除阳离子的方法：用素烧陶瓷进行隔膜电解。具体做法是：在生产或停产时，用

一素烧陶瓷桶固定于镀铬槽中，素烧陶瓷桶中加入稀的镀铬回收液，用一根连接阴极的

铁棒或铅棒悬于素烧陶瓷桶中，打开整流机电流电解。阳离子被吸附到素烧陶瓷桶中，

每电解10-12小时，提起素烧陶瓷桶并废弃桶内溶液。

6、录离子的去除：针对镀镍后再镀铬工艺，镀镍液中的录离子不可避免地带到了镀铬

槽中。录离子大大降低镀层的覆盖能力（走位差）。去除方法：将镀液加温至50℃以上，

大电流电解。

广州德诚新材料有限公司主要从事各种电镀添加剂的研发、生产与销售，主要产品有电镀添加剂|酸铜光亮剂 镀镍光亮剂|碱铜光亮剂| 珍珠镍添加剂 锡钴枪色添加剂 锡镍枪色添加剂 代铬添加剂 镀铬添加剂 焦铜光亮剂等等。公司致力于“客户至上，服务至上，品质稳定，合作共赢”的企业经营理念。公司所有产品的原材料都来源于国内外的原材料生产商，公司产品涉及到五金、电子电镀，装饰性电镀，通讯器材，半导体，汽车配件等领域。我们公司还可以为客户提供生产车间和工艺流程的设计，提供有力的技术咨询。

温馨提示：以上价格不作为实际价格 以电话咨询价格为准