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金蚀刻剂GE-8148
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信息介绍
详细参数
金薄膜蚀刻剂在光刻法制作微电子线路中用以选择蚀刻金。和光刻技术相结合这些蚀刻剂可在氧化铝或其他基板上的薄膜上制作精密电极和电阻图案。其纯度高钠含量低，0.2微米过滤，可用于半导体和微型电子产品。
金蚀刻剂TFA，用于制作标准产品
金蚀刻剂GE-8148，不浸蚀镍膜
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