本品为钼和钨的选择蚀刻剂,可用于半导体和微电子技术。TFM和TFW选择蚀刻剂是加有缓冲剂的呈中等碱性的氰化铁基蚀刻剂,其蚀刻图案分辩率高,边下蚀低,与光刻胶有良好匹配性。采用浸泡或喷涂技术可达到控制性均匀的蚀刻效果。
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钨蚀刻剂TFW易化商城蚀刻剂
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