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钨蚀刻剂TFW

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本品为钼和钨的选择蚀刻剂,可用于半导体和微电子技术。TFM和TFW选择蚀刻剂是加有缓冲剂的呈中等碱性的氰化铁基蚀刻剂,其蚀刻图案分辩率高,边下蚀低,与光刻胶有良好匹配性。采用浸泡或喷涂技术可达到控制性均匀的蚀刻效果。

青岛凯莫思生化科技有限公司为你提供的“钨蚀刻剂TFW”详细介绍
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