金属锆、高纯锆、海绵锆,碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐,锆盘管,锆冷却管,锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜,锆铁,铝锆中间合金等。
3)结晶铪,高纯铪,海绵铪,铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4)金属钽,钽板,钽丝,钽棒,钽靶等。
5)金属铌,铌锭,铌板,铌棒,铌板,铌粉等。
磁控溅射镀膜靶材:
金属锆溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材 ,氮化物陶瓷溅射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材 ,硅化物陶瓷溅射靶材 ,硫化物陶瓷溅射靶材 ,碲化物陶瓷溅射靶材 ,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),化铅靶材(PbAs),化铟靶材(InAs)。
高纯高密度溅射靶材有:
溅射靶材(纯度:99.9%-99.999%)
各种类型的溅射薄膜材料,铪靶,锆靶在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来,溅射靶材及溅射技术的同步发展,地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如,在半导体集成电路制造过程中,以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线:在平面显示器产业中,各种显示技术(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步发展,有的已经用于电脑及计算机的显示器制造;在信息存储产业中,磁性存储器的存储容量不断增加,新的磁光记录材料不断推陈出新这些都对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求,需求数量也逐年增加。
市场概况
日本。就美国而言.约有50家中小规模的靶材制造商及经销商,其中大的公司员工大约有几百人。不过为了能更接近使用者,以便提供更完善的售后服务,主要靶材制造商通常会在客户所在地设立分公司。近段时间,的一些国家和地区,如台湾.韩国和新加坡,就建立了越来越多制造薄膜元件或产品的工厂,如IC、液晶显示器及光碟制造厂。
对靶材厂商而言,这是相当重要的新兴市场。中国靶材产业发展也是与日俱增,不断的扩大自己的规模和生产技术,国内一线生产制造靶材的已经达到国外的技术水平。2010年,日本三菱公司就在中国台湾地区建立了光碟埘靶材的生产基地,可以满足台湾50%的靶材需要。
可根据用户需要制作。
锆盘管换热器:
规格;标准规格,功率有1.5KW-50KW,
形态;根据加热功率,可制成“L”型,“U” “0"型等,并可附有过热保护装置。
用途;适用于钛无法胜任的酸、碱介质中(氢氟酸除外)。
在聚合物的生产中,锆的应用是代替石墨作热交换器。锆热交换器的成本虽比石墨约高4倍,比钛约高 2倍,但它足以弥补成本费。
我们曾在多种农药设备上进行过工业锆的应用研究,如在农药反应罐中进行了锆的实际应用与挂片试验。农药水解反应的条件为:20%硫酸+甲萘胺;温度220-250℃;15个大气压(1520kPa),一个流程时间为7h,在此条件下设备腐蚀严重,1mm厚普通钢板,反应后即腐蚀穿孔。原采用罐内搪12- 14mm厚的铅层为防腐层,则易污染环境,铅的抗腐蚀也较差,一个搪铅反应罐,仅能使用50-60批料即穿孔漏液。锆挂片试验条件为:生产介质20%硫酸+甲萘胺;生产200-250℃;压力14-15个大气(1419- 1520kPa)。结果表明,随时间增加,锆母材与焊缝区氧含量稍有增加,但增加速度较缓,对锆的力学性能未引起恶化。而氢含量却在这种介质腐蚀中逐渐下降,可减少脆性,对锆有利,年腐蚀率仅为 0.024-0.04mm/a。
锆作为与氧有亲和力的活泼金属,氧化膜的耐蚀性能决定了其可以胜任多重腐蚀环境。
一、工业纯锆在所有的沸腾的所有浓度盐酸中,腐蚀速率均小于0.025mm/a。
二、在小于70%的硫酸中锆具有的耐蚀性。此外由于不锈钢和镍合金不能在高温、20%的硫酸和40-60%的沸腾温度以下的硫酸范围内使用,故锆在硫酸环境具有无可替代的作用。
三、在200℃以下,不大于90%的硝酸中,锆具有良好的耐蚀性。但应注意锆在硝酸中的应力腐蚀开裂敏感性。
四、锆在所有浓度甚至沸腾的苛性碱溶液中都耐腐蚀。耐蚀性超过了钽、铌、钛。