化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
多功用磁控溅射镀膜系统,由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体气氛下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸腾镀膜与手套箱组合,实现蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造,使整个薄膜生长和器材制备过程高度集成在一个完整的可控环境气氛的系统中,消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,保障了高功用、大面积有机光电器材和电路的制备。
暴露在空气中的真空镀膜机表面容易受到污染。污染源有很多,初的污染通常是地表本身的一部分。吸附现象、化学反应、浸出干燥过程、机械处理、扩散和偏析过程都增加了各种组分的表面污染物。真空材料表面的常见污染物如下。
①油脂:润滑剂、切削液、真空油脂等。在加工、组装和操作过程中被污染;
②水基类:操作时的手汗、吹气时的水蒸气、唾液等。
③表面氧化物:材料长时间放置在空气中或潮湿空气中形成的表面氧化物;
④酸、碱、盐类物质:清洗时的残留物质、手汗、水中的矿物质等。
⑤环境空气中的抛光残渣、灰尘和其他有机物等。