Gemini 物镜的设计结合了静电场与磁场, 在提升光学性能的同时将它们对样品的影 响降至低。因此,即便是要求苛刻的样 品 —— 如磁性材料,也能进行成像。 在 Gemini 镜筒设计理念中, Inlens 用二次 电子( SE ) 和背散射电子( BSE ) 探测器来 确保的信号检测。
Gemini 3 型镜筒介绍
Gemini 3 型镜筒是专为表面灵敏成像领域 的苛刻任务而设计,它确保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作条件下都能达到高分 辨率。它由两个协同工作的组件组成,即 Nano-twin 物镜和智能自动光路调节—— 它 们组成一个全新的电子光学引擎。 BSE 的优 势也可以为您提供良好的图像衬度,让您可 以从样品中提取出尽可能多的信息。
• 通过 Nano-twin 物镜实现低电压下的优 化高分辨率
• 通过新的大视野概览模式实现样品导航和 高分辨率成像之间的无缝过渡
• 通过新的自动聚焦功能和新的快速镜筒对 中算法实现高速优化图像质量。
智能自动光路调节优化了通过镜筒的电子轨 迹,从而确保了在每个加速电压下尽可能高 的分辨率。它还引入了新的自动功能,在整 个放大倍数范围内(从 1 倍到 2,000,000 倍) 实现无缝对准自由切换,并将观察视野增 加了 10 倍,从而可以在单幅图像中完整成 像 13 厘米的物体。GeminiSEM 560 保持了 市场上尺寸达 32k × 24k 的超大图像存储像素, 在大视野无畸变拼接成像方面优势。
分辨率模式
在高分辨率电子枪模式下, 电子束色差降低, 从而实现更小的束斑。
在样品台减速技术模式下, 为样品施加减 速电压。该减速电压可进一步提高 1 kV 以 下的图像分辨率并增强背散射探测器的检 测效率。
全套探测系统: 根据出射能量和出射角选 择性地探测样品的电子
GeminiSEM 系列的全套探测系统有大量不同 的探测器可供选配。通过组合 EsB (能量选 择背散射) 探测器、 Inlens 二次电子探测器 及 AsB (角度选择背散射) 探测器获取样品 材料、表面形貌或结晶度的信息。入射电子 与样品作用后可产生二次电子( SE ) 和背散 射电子( BSE )。从纳米级样品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次电子可用来表征样 品的表面形貌。这些二次电子可通过特设 计的电子束推进器向后加速进入镜筒,并经 Gemini 物镜投射到环形 Inlens 二次电子探测 器里。 GeminiSEM 可根据样品的表面条件在 宽角度范围内探测二次电子。
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导电零部件。