年来快速发展起来的电子元器件的高速选择性镀银,如引线框架的选择性镀银,采用喷射镀的方法。所用的电流密度高达300~3000A/dm,镀液中氰化银钾[KAg(CN)2]的浓度 也高达40~75g/L,阳极采用白金或镀铂的钛阳极,这样在1s内即可镀上约4~5μm的银层,它已能满足硅芯片和银焊垫之间用铝线来键合(Bonding)。
1913年,Frary报道二硫化碳与乙醚、各种酸、氰和亚硫酸的混合物可作为硫氰酸盐镀银的光亮剂,也发现黄原酸钾和砷、锑、锡的硫化物也是有效的光亮剂。后来发现硫脲也是一种镀银光亮剂。当其用量达35~40g/L时,其光亮度可超过二硫化碳衍生物。
镀金回收合金的处理方法:含金合金种类繁多,广泛用于各工业部门。凡使用和制造这些合金材料和元件的部门,都有这些合金的废旧材料、边角或碎屑。从这些废旧原料中回收贵金属的方法,有布林斯敦工厂采用的方法。对于含金高(20%~50%)、含银低(小于35%)或不含银的合金,还可直接使用电解法处理。