氧化铈抛光液分散机，氢氧化稀土高速分散机

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淡黄或黄褐色助粉末，可用氢还原氧化铈得到三氧化二铈，其性能是做抛光材料、催化剂、催化剂载体（助剂）、紫外线吸收剂、燃料电池电解质、汽车尾气吸收剂、电子陶瓷等。

稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，与传统抛光粉——铁红粉相比，不污染环境，易于从沾着物上除去等优点。用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30～60分钟。所以，稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光的优点。而且能改变抛光质量和操作环境。

我国具有丰富的稀土资源，工业铈资源的储量高达1800万吨左右，而氧化铈抛光材料因具备切削能力强、抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，被应用于许多方面，如对镜头、光纤、光学元件、硅片、ITO玻璃、手机玻璃、航空玻璃、集成电路基板等的抛光，已成为化学机械抛光的重要材料之一。

目前，我国集成电路生产所采用的抛光液几乎全部为进口，国产较少，然而进口抛光液售昂，从而增加了芯片的生产成本，特别是外企从我国进口铈盐原材料，再将其加工制备成抛光液再转卖给我们。国内主要以生产抛光粉为主，能生产悬浮稳定性较好抛光液的企业极少。而国内生产抛光液存在分散稳定性不佳，氧化铈颗粒板结团聚，从而导致抛光效率低，表面质量差等问题。制备高浓度氧化铈抛光液时，要求抛光液具有优良的悬浮性与再分散性(抛光液底部的无明显板结情况)。


IKN分散机采取直立式设计，使物料可以全部进入分散腔，符合工艺要求和流体力学要求，增加其工作效率，***低处出口的出料设计符合生产要求，垂直的压力使得该机器工作更加稳定，同时便于清洁。与物料接触的材料根据生产要求使用SS316钢或更加耐酸碱的哈氏合金，增强其耐磨损和耐腐蚀的特性，杜绝设备与物料产生物理和化学变化而形成污染。采用了三层结构卡匣式的机械密封设计，可以安装，可靠性能高，适合制药工业。根据制药规范要求，对分散腔和出料口进行表面处理，的表面处理质量和无死角设计便于清洗，符合CIP及SIP的清洁标准。

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：
1.分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）
2.分散头的剪切速率，（越大效果越好）
3.分散头的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）
4.物料在分散墙体的停留时间、分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）
5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  
速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60
 所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素，高速分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的

ERS2000系列高速分散机设备型号推荐表
型号 流量
L/H 转速
rpm 线速度
m/s 功率
kw 入/出口连接
DN
ERS2000/4 300-1000 14000 44 2.2 DN25/DN15
ERS2000/5 1000-1500 10500 44 7.5 DN40/DN32
ERS2000/10 3000 7300 44 15 DN80/DN50
ERS2000/20 8000 4900 44 37 DN80/DN65
ERS2000/30 20000 2850 44 75 DN150/DN125
ERS2000/50 40000 2000 44 160 DN200/DN150
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。
3 参数内的各种型号的流量主要取决于所配置的乳化头的精密程度而定。
4 本表的数据因技术改动，定制而不同，正确的参数以提供的实物为准</a>

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