现货供应研究所圆片级封装（WLP)光刻胶PR安智AZAZ50XTAZ10XT凸点UBM工艺

张汝京先后在美国、新加坡、日本、中国台湾等地主导建立了20多家晶圆厂，2002年创立中芯国际，2004年搭建了条12英寸生产线，从建厂到上市的4年时间里，中芯国际在全球晶圆厂中排名第四，成为大陆晶圆制造企业的羊。2009年，他离开中芯国际，决定几年内不再从事半导体行业，于是他尝试过LED、硅材料等领域。2014年，他又协助创办了新昇半导体，填补了国内微晶圆的空白。

现货供应大学研究所 正性 负性 电子信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高感光度
现货供应中科院 正性 负性 干膜 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高产出率
现货供应 研究所 正性 负性 报告 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 干法刻蚀
现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚
现货供应光机所 正性 负性 信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分稳定现货供应大学研究所 正性 负性 厚浆 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 附着性好
现货供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 湿法刻蚀
现货供应光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 成份稳定
现货供应光机所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 可靠性高
现货供应研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 应用广泛现货供应大学研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
现货供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 附着性好
现货供应光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 干法刻蚀，湿法刻蚀
现货供应研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
现货供应光机所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 刻蚀工艺 应用广泛现货供应大学研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 分辨率高
现货供应中科院 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 高纵宽比
现货供应光电实验室 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 附着性好
现货供应光机所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 电镀工艺高耐受性
现货供应研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸点UBM工艺现货供应大学研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 G线I线通用
现货供应中科院 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度
现货供应光电实验室 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高产出率
现货供应研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 干法刻蚀
现货供应光机所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 成分稳定现货供应大学研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E
现货供应中科院 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 分辨率好
现货供应光电实验室 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 宽膜厚范围
现货供应光机所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/负反转
现货供应研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高对比度
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高感光度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分稳定
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 论文验证
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 附着性高现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高感光度
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 论文验证
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 应用广泛现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高感光度
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 论文验证
中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 应用广泛现货供应光刻胶 显影液 剥离液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应厚膜正型光刻胶 显影液 剥离液 AZ400K AZ300MIF 适用各种显影工艺
现货供应光刻胶 Puddle工艺 显影液 腐蚀剂 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应光刻胶 Dip工艺 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 去除 无需表面活性剂
现货供应大学研究所 光刻胶 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 显影效果好

本公司，是一家以主营芯片封装光刻胶,安智AZ,显影液,曝光显影油墨企业。深圳市启耀光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品贸易及技术服务提供商。公司创立于2014年，已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户，以客户满意为导向，提供率的服务，导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台，提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备，相关设备配件，材料及技术整合服务的供应商。力求服务与营运的创新，公司