石嘴山半导体晶圆划片保护液厂家

DF268润滑切割叶片，在1：2000的稀释率下显著降低摩擦力和表面张力，并作为冷却剂，减少导致硅片裂纹的热量。

DF310激光切割液、可生物降解。搭配水分配系统可以实现自动上液。
北京汐源科技有限公司 晶圆划片保护液，隐形切割保护液。
DF268切割液可在1加仑桶和5加仑桶。
DF310由水溶性涂层和其他添加剂配制，以降低表面张力，形成保护层，润滑和湿基底表面，防止或减少碎屑、毛刺、硅屑和热中的腐蚀。
特的特点有效地消除了硅粉尘的堆积，防止锌腐蚀减少芯片，毛刺和开裂润滑和作为冷却剂，减少摩擦和热量增加，产生可生物降解
乐泰 STYCAST 2651MM/CATALYST 23LV
乐泰 STYCAST 2651MM/CATALYST 9
乐泰 STYCAST 2850FT/CAT 11
乐泰 STYCAST 2850FT/CAT 23 LV
乐泰 STYCAST 2850KT/CATALYST 9
乐泰 STYCAST 2850MT/CATALYST 24LV
乐泰 STYCAST 50500D
乐泰 STYCAST A312
乐泰 STYCAST E1070
乐泰 STYCAST E1847
乐泰 STYCAST EFF15 SYNTACTIC FOAM POWDER
乐泰 STYCAST U2500
LOCTITE ABLESTIK 104

不同类型的半导体晶圆划片保护液在成分和使用方法上可能有所不同。例如，一些保护液包含非离子表面活性剂、消毒活性物质和其他功能性物质，通常以浓缩物的形式提供，使用时需要按一定比例稀释‌。此外，还有针对金属电极和基材的保护液，这些保护液通常包含特定的化学成分，如聚合物、肟类化合物、pH调节剂等，以确保在半导体晶圆制造过程中的稳定性和保护性‌