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设备信息

镀膜设备利用人机界面触摸屏+PLC与全自动晶振膜厚仪构成全自动控制系统、可以实现参数录入、过程监控及数据存储等功能、可设定工艺流程并自动执行、使镀膜膜层重复性、光学性能稳定性有质的提高、解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色、光学性能不一致等问题。

产品特点：

1.多室滚轮传动，分为粗抽室，过渡室，精抽室，缓冲室，彩镀室。

2.可镀膜玻璃大规格2500mm*8000mm。

3.靶材设计：旋极靶材，平面阴极靶材。

4.可配置中频，直流靶材。

5.极限压力:2X10-3。

6.生产线采用PLC全过程控制，并配有彩色显示屏，显示镀膜工艺过程参数。

7.控制系统能实现人、机对话，及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报**提示和故障显示，故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过